Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT entwickelt und fertigt kundenspezifisch Bauelemente der Leistungselektronik und der Mikrosystemtechnik. Wichtige Einsatzgebiete sind die Energietechnik, die Automobil- und Verkehrstechnik, die Konsumgüterindustrie, die Medizintechnik, die Kommunikations- und die Automatisierungstechnik. Die modernste technologische Ausstattung auf der Basis einer 200 mm-Silizium-Wafertechnologie und das über Jahrzehnte aufgebaute Know-how sichern dem ISIT und seinen Kunden eine weltweit führende Position auf dem Gebiet.

Das Fraunhofer-Institut für Siliziumtechnologie ISIT arbeitet seit 1996 am Standort Itzehoe mit Partnern aus Industrie und Forschung an der Entwicklung von Bauelementen der Leistungselektronik sowie Mikrosystemtechnik.
Der Fokus des Geschäftsfeldes Leistungselektronik liegt auf der Entwicklung innovativer aktiver und passiver Leistungshalbleiterbauelemente auf Basis von Silizium und Galliumnitrid, auf deren Integration in leistungselektronischen Systeme sowie auf der Entwicklung von Batteriespeichern und Hochleistungsspeichersystemen.